等離子處理機，清洗激活蝕刻

時間：2022-04-08

作者：煙臺金鷹科技有限公司

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詞條
詞條說明
等離子清洗機去除晶圓Wafer光刻膠
等離子清洗機能去除晶圓表面肉眼看不到的表面污染物，使得晶圓表面變得清潔并具親水性芯片制作完成后殘余的光刻膠無法用濕式法清洗，只能通過等離子清洗機進行去除，晶圓級封裝前等離子清洗機處理的目的是去除表面的無機物，還原氧化層，增加銅表面的粗糙度，提高產品的可靠性。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統
大氣常壓等離子表面處理機設備
大氣常壓等離子表面處理機常壓等離子表面處理機設備由等離子發生器、氣源輸入及等離子處理工作站等部分組成。等離子發生器產生高壓高頻能量在噴頭鋼管中被激活和被控制的輝關光放電中產生了低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面，當等離子體與被處理物體表面相遇時，產生了化學作用和物理變化，表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油?脂、輔助添加劑等，根據材料成分，其表面分子鏈結構得到了改變
等離子清洗機，微電子粘接前提升附著力
在微電子封裝領域中，經常會出現手印、污漬、灰塵、自然氧化等缺陷，在生產后期會產生各種污漬。采用等離子清洗機可有效去除可能表面的污染物。等離子清洗機應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離
等離子清洗機，去除Wafer晶圓光刻膠
等離子清洗機去除Wafer晶圓表面光刻膠，等離子清洗機用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應系統中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發性氣體狀態物質被抽走。等離子清洗機的去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品的質量等優點,而且等離子清洗機不用酸、堿及有機溶劑等。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等