詳解磁控濺射技術

時間：2025-09-24作者：那諾-馬斯特中國有限公司瀏覽：651

那諾-馬斯特中國有限公司專注于磁控濺射系統,刻蝕系統,清洗去膠系統等

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  詞條說明

• 詳解磁控濺射技術

  一、磁控濺射的工作原理：磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優點。磁控濺射的工作原理是：在高真空的條件下充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使氬氣發生電離（在高壓作用下Ar

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• 恭祝ZN硅業NPE3500型PECVD順利驗收

  近日，NANO-MASTER工程師至浙江ZN硅業有限公司，順利安裝驗收NPE-3500型PECVD等離子體化學氣相沉積設備！NANO-MASTER的PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可應用于等離子誘導表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據不同應用，可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規格的離子源。標準樣品臺尺寸有6”和8”可選，較高可定制到1