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??高溫無氧烘箱應用于MEMS智能傳感器芯片生產、LCD前工段生產、玻璃基板等工藝中的PI(聚酰亞胺)固化,BCB聚合物、PBO高溫固化,銀膠固化,光刻膠固化,鍍金方案中感濕膜烘烤工藝,車載玻璃鍍膜后退火,硅片(晶圓)高溫退火,PCB板防氧化烘烤,氟橡膠材料厭氧烘烤工藝,電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,適用于工廠生產、高校研究、科研機構研發等。PI高溫無氧烘箱的用途&nbs
冷熱沖擊二箱試驗箱 型號 AZTS 27 2T AZTS 84 2T AZTS 157 2T AZTS 320 2T AZTS 500 2T AZTS 1000 2T 電源 交流380V 50赫茲 3相+N+PE 較大電流 25 31 39 46 67 84 最大功率 12.5 16 22 25.5 37 47.5 使用環境溫/濕度 +15~+35℃/≤85%RH 形式 兩廂式 提籃運動方向 垂直
NANO科技(北京)有限公司選用宏展高溫試驗箱、精密烘箱等環境試驗設備!
NANO科技(北京)有限公司選用宏展高溫試驗箱、精密烘箱等環境試驗設備! SiFotonics Technologies Co., Ltd. 成立于2006年底,目前投資額近5000萬美元,公司在波士頓、北京、上海分別設立了研發中心,現有員工約100余人。SiFotonics**技術團隊匯集了來自MIT、*大學、復旦大學的多名業界精英,投身于硅基光電產品*技術的開發與應用。NANO科技(北京
光模塊的使用溫度分為三種:商用級溫度、擴展級溫度、工業級溫度,而在實際的使用中是分為商用級溫度和工業級溫度兩大類,它們有以下區別:一、工作溫度:-40℃至85℃光模塊的工作溫度一般為-40℃至85℃之間,分為商業級和工業級范圍1商溫范圍為0℃至70℃,工溫范圍為-40℃至85℃,屬于商業級范圍,室溫為25℃時,光模塊自身發熱25℃都屬于正常溫度。因此,光模塊的工作溫度范圍為-40℃至85℃。二、工
公司名: 廣東宏展科技有限公司
聯系人: 曾小姐
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