磁控濺射鍍膜設備工作原理

時間：2022-05-21作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：260

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• 詞條

  詞條說明

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則該化學反應無法繼續進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其

• 真空鍍膜設備的環境要求

  ? ? ? ? ? 由于真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環境的要求。我國制減定的各類真空鍍膜設備的行業標準(包括真空鍍膜設備通用技術條件、真空離子鍍膜設備、真空濺射鍍膜設備、真空蒸發鍍膜設備)都對環境要求作了明確規定。只有滿足了真空鍍膜設備對環境的要求，才能使該設備正常運轉，加上正確的鍍膜工藝，方能生產出合格的鍍膜產品。真空對

• 磁控濺射鍍膜設備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個運行模式的二級濺射。它與二，四級濺射的主要不同點；一是，在濺射的陰極靶后面設置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產生水平分量的磁場或垂直分量的磁場，由氣體放電產生的電子被束縛在靶面附近的等離子區內的特定軌道內運轉；受電場力和磁場力的復合作用，沿一定的跑道作旋轉輪轉圈。? ? ? ?

• 真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜，實際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積，包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經有了高質量的光學薄膜沉積案例，開發了多種光學膜層材料。這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟