KRI 離子源用于離子束拋光機

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
HVA 真空閘閥在氣體管路系統應用
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空閘閥在氣體管路系統應用半導體工廠, 太陽能光伏, LED, 鍍膜等行業在工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩定的供應到工藝設備內. 美國 HVA?真空閘閥廣泛用在氣體輸送環
HVA 真空閥門71000系列, 適用于苛刻的真空環境, 易于維護
說到真空閥門, HVA 是繞不開的, HVA 真空閥門是行業的者. HVA真空閥門包含HVA 真空矩形閥、HVA 真空閘閥, 真空插板閥、HVA 真空角閥等.?在 HVA 真空閥門中 71000 系列閥門, 憑借其在 HVA 閥門中廣為人知的性和性, 使用壽命 > 250,000 cycles 啟閉次數.?HVA?真空閥門?71000 系列由堅固的不繡
KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜
?? 舞臺燈光雖然呈現是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學濾光片,?對光進行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產生不同顏色.?而在光學元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質膜
KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用
上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！KRi 離子源預清潔可以實現去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留去除化學吸附污