美國(guó) HVA 真空閥門(mén)中國(guó)總代理

時(shí)間：2024-01-11作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：49

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)

  Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)上海伯東德國(guó) Pfeiffer 經(jīng)濟(jì)型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應(yīng)用于玻璃封管抽真空, 進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn), 主要應(yīng)用如下:系統(tǒng)真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內(nèi)放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩(wěn)定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對(duì)燒結(jié)的不良影響, 然后對(duì)

• 英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量

  英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量 上海伯東代理的英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量應(yīng)用, 某高校老師通過(guò)原子力顯微鏡進(jìn)行硅片表面形貌測(cè)量和表面粗糙度測(cè)量, 便于后續(xù)進(jìn)行拉曼增強(qiáng). 測(cè)試方法: 選用上海伯東英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進(jìn)行測(cè)試. 將樣品放置在樣品臺(tái), 通過(guò)系統(tǒng)軟件自動(dòng)控制. 原子力顯微鏡測(cè)試條件

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

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• KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性（1 σ）達(dá)到< 1%. 可以用來(lái)刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的部件,