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簡介:UV光催化活性炭一體機結合了UV光催化氧化技術和活性炭吸附,相比分開的兩種設備,凈化效率更高,成本降低,可以處理多種**廢氣和惡臭廢氣,如:醇類、醛類、苯類、氨氣等等**廢氣和惡臭廢氣。 UV光催化氧化技術:光催化氧化是指在一定波長光照條件下,半導體材料發生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將**物大分子降解為二氧化碳或
UV光解活性炭一體機結合了UV光解氧化技術和活性炭吸附,相比分開的兩種設備,凈化效率更高,成本降低,可以處理多種**廢氣和惡臭廢氣UV光解氧化技術光解氧化是指在一定波長光照條件下,半導體材料發生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將**物大分子降解為二氧化碳或其他小分子**物以及水,在反應過程中這種半導體材料也就是光解劑本身不發
一、概述低溫等離子除臭+UV光解一體機分為紫外線光解和等離子分解兩個區,惡臭氣體先經等離子分解區再到UV紫外線光解區,經多級凈化后達標排出。UV紫外線光解區:利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體,如、**胺、、甲硫氫、、四硫醚、、和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、的分子鏈結構,使**或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H
技術原理 光催化凈化是基于光催化劑TiO2在高能紫外線燈照射下具有的氧化還原能力而凈化污染物。利用光催化凈化技術去除空氣中的**污染物具有以下特點: 1、直接用空氣中的氧氣做氧化劑,反應條件溫和(常溫 常壓) 2、可以將**污染物分解為二氧化碳和水等無機小分子,凈化效果徹底。 3、TiO2催化劑化學性質穩定,氧化還原性強,成本低,不存在吸附飽和現象,使用壽命長。 5、TiO2 的光催化機理 半導體
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