氦質譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測

時間：2023-04-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵
分子泵組應用于低溫真空探針臺
Pfeiffer?分子泵組應用于低溫真空探針臺真空探針臺一般用于復雜, 高速精密器件進行表面觀測以及各種性能測試的儀器, 通過測試可以產品的質量和性并縮減研發時間和器件制造工藝的成本. 探針臺主要應用于半導體行業, 光電行業, 集成電路以及封裝的測試為什么需要真空環境?1. 真空探針臺通過搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤及真空吸附探針座的使用, 通過空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由
KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備
??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,?實現可見光區（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學濾光片,?主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數碼成像領域,?用于紅外光線對?CCD/CM
分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗
Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗上海伯東德國 Pfeiffer 經濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應用于玻璃封管抽真空, 進行金屬燒結試驗, 主要應用如下:系統真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結的不良影響, 然后對