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膜厚測量的精準之道在工業生產和科研領域,膜厚測量技術扮演著至關重要的角色。這項技術通過精確測定涂層、鍍層或薄膜的厚度,為產品質量控制提供了可靠依據。現代膜厚測試儀已經發展出多種測量原理,滿足不同場景下的測量需求。光學干涉法是較常見的膜厚測量技術之一。這種方法利用光的干涉原理,通過分析干涉條紋的變化來計算膜層厚度。其優勢在于非接觸式測量,不會對樣品造成損傷,特別適合測量脆性材料或精密元件。但這種方法
電鍍鍍層分析儀的關鍵技術與應用 電鍍鍍層分析儀是電鍍行業質量控制的重要工具,主要用于檢測鍍層厚度、成分及均勻性。其核心技術包括X射線熒光光譜(XRF)、庫侖法和光學干涉測量等,能夠快速、無損地獲取鍍層數據,確保產品符合工業標準。 XRF技術是目前應用較廣泛的分析方法,通過測量鍍層材料受激發后釋放的特征X射線,精確計算鍍層厚度和元素組成。這種方法適用于多種金屬鍍層,如鎳、鉻、鋅等,且檢測速度快,適
精準測量背后的科技力量 在工業檢測領域,厚度測量是質量控制的關鍵環節。X熒光測厚儀憑借其非破壞性和高精度的特點,成為許多行業的可以選擇設備。這種儀器通過X射線激發材料表面,根據熒光強度計算鍍層或涂層的厚度,適用于金屬、塑料等多種基材。 X熒光測厚儀的核心優勢在于其無損檢測能力。傳統測量方法往往需要切割或破壞樣品,而X熒光技術只需將探頭貼近被測物表面,即可快速獲取數據。這不僅節省了時間和成本,還保留了樣
1.按入射光束數可分:實驗室單光束原子吸收光譜儀和實驗室雙光束原子吸收光譜儀;2.按原子化方式可分:實驗室火焰原子吸收光譜儀和實驗室石墨爐原子吸收光譜儀等;3.按背景扣除方法可分:實驗室氘燈扣背景原子吸收光譜儀和實驗室塞曼扣背景原子吸收光譜儀等;4.按分析對象的屬性可分:實驗室無機物原子吸收光譜儀和實驗室**物原子吸收光譜儀;5.按應用范圍可分:**型實驗室原子吸收光譜儀和通用型實驗室原子吸收光譜
公司名: 江蘇天瑞儀器股份有限公司
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