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鉬合金靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料 鉬合金靶材是真空鍍膜領域的核心材料之一,主要用于磁控濺射、離子鍍等工藝。這類靶材通常由鉬與其他金屬元素(如鈦、鋯、鎢等)組成,具備高熔點、低濺射速率和優異的導電性,適用于半導體、顯示面板、太陽能電池等高端制造領域。 **高純鉬靶材的優勢** 鉬合金靶材的純度直接影響鍍膜質量。高純度鉬靶材(純度可達99.95%以上)能減少雜質干擾,確保薄膜的均勻性和導電性能。
? ? ?貴金屬靶材就是采用精練、粉末冶金、壓延加工或熔化鍛造制造而成的貴金屬靶材材料。是主要應用于半導體器件、存儲用的硬盤、平面顯示器等的布線和制備薄膜用的貴金屬濺射靶材材料。廣泛應用于集成電路和大規模集成電路。還有一些合金靶材用于磁記錄。? ? ?在貴金屬靶材中其貴金屬的純度都在99.99%以上主要應用在半導體行業與大規模的集成電路中
硫化鉬靶材:薄膜制備領域的新星硫化鉬靶材正成為薄膜制備領域備受關注的新材料。這種由鉬和硫元素組成的化合物靶材,因其獨特的層狀結構和優異的性能,在多個工業領域展現出廣闊應用前景。硫化鉬靶材最顯著的特點是它的層狀結構。這種類似于石墨烯的二維結構,使其在摩擦學性能方面表現突出。用其制備的薄膜具有極低的摩擦系數,這一特性使其成為機械零部件表面處理的理想選擇。在真空鍍膜過程中,硫化鉬靶材通過磁控濺射等技術
梅州鉭靶材廠家:**高屬材料技術領域作為一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型公司,我公司致力于為客戶提供的鉭靶材及各類金屬材料產品。憑借多名中**技術人員和化應用實驗室以及強大的研發能力,我們不斷推出、具競爭力的產品,受到廣大客戶的信賴和。鉭靶材作為一種藍灰色過渡金屬,具有高度的化學穩定性和抗腐蝕性,而且熔點高達2996℃,屬于高熔點金屬。在制造化工器材、真空管、醫療器具及植入物等方
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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