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佛山貴金屬靶材廠


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    一氧化硅靶材:半導體制造中的關鍵材料在半導體和光電材料領域,一氧化硅靶材扮演著不可或缺的角色。這種特殊材料通過物理氣相沉積技術,能夠制備出性能優異的功能薄膜,廣泛應用于微電子、光學鍍膜和太陽能電池等行業。一氧化硅靶材的制備工藝極為講究,通常采用高純度硅粉和二氧化硅為原料,在特定條件下通過高溫反應合成。制備過程中需要嚴格控制氧分壓和溫度參數,以確保產物化學計量比的精確性。高質量的靶材要求具有高純度

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