深圳稀土靶材廠

時間：2024-10-14作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：387

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  詞條說明

• 金屬合金靶材

  金屬合金靶材：現代工業的隱形支柱 金屬合金靶材是一種廣泛應用于薄膜沉積技術的關鍵材料，尤其在半導體、光伏、顯示面板等行業中扮演著不可或缺的角色。它的核心作用是通過物理或化學方法濺射或蒸發，在基材表面形成均勻、高性能的薄膜，從而賦予材料特定的電學、光學或機械性能。 金屬合金靶材的核心特性 金屬合金靶材的性能直接影響薄膜的質量，因此其成分、純度、微觀結構均需嚴格控制。高純度是基本要求，雜質含量通常需

• 韶關高純鉻靶

  韶關高純鉻靶：打造薄膜材料的產品隨著科技的發展和應用領域的不斷擴大，高純鉻靶作為PVD技術的一部分，在半導體制造、光學鍍膜以及磁盤制造等領域發揮著重要作用。作為廣受歡迎的金屬材料之一，高純鉻靶以其優異的物理性能和化學性質備受行業青睞。一、高純鉻靶的基本原理及應用領域高純鉻靶主要是利用PVD技術中的濺射過程，通過輝光放電在真空環境中撞擊靶表面的氬離子，使靶材中的鉻物質被加速撞擊并飛出，終在基板上形成

• 云浮鎢鈦合金靶材廠家

  云浮鎢鈦合金靶材廠家鎢鈦合金靶材是一種由鎢和鈦兩種金屬元素組成的合金靶材，具有多種優異的物理和化學性質，被廣泛應用于多個領域。作為一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司，我們擁有多名中**技術人員和化應用實驗室，致力于研發出的鎢鈦合金靶材產品，以滿足客戶的需求。鎢鈦合金靶材以其高熔點、高硬度、高密度和高熱穩定性等特點，具有穩定的性能，適用于高溫、高壓等特殊環境下的

• 氧化錫銻靶材

  氧化錫銻靶材：光電領域的隱形冠軍 在真空鍍膜領域，氧化錫銻靶材憑借其獨特的性能優勢，成為制備透明導電薄膜的核心材料。這種陶瓷靶材由氧化錫和氧化銻按特定比例燒結而成，在可見光區透光率超過85%，電阻率可低至10^-4Ω·cm量級，完美平衡了透明性與導電性這對天然矛盾體。 氧化錫銻薄膜的制備主要采用磁控濺射工藝。當高能粒子轟擊靶材表面時，錫、銻、氧原子以分子形式濺射到基板上，通過精確控制濺射功率、氣