珠海鉻靶材報價

時間：2025-03-14作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：269

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  詞條說明

• 鎳鉑合金靶材

  鎳鉑合金靶材：精密鍍膜的關鍵材料 在真空鍍膜領域，鎳鉑合金靶材憑借其獨特的物理化學特性，成為制備高端功能薄膜的核心材料。這種由鎳和鉑按特定比例熔煉而成的合金，通過磁控濺射工藝能在基材表面形成致密均勻的薄膜，在半導體、光學器件等領域展現出不可替代的價值。 鎳鉑合金靶材的制備需要精確控制鉑含量在5-20%之間，采用真空感應熔煉結合精密軋制技術。這種配比使材料兼具鎳的延展性和鉑的化學穩定性，晶粒尺寸可

• 磁控濺射鈷鐵硼合金靶材

  磁控濺射靶材：薄膜制備的"心臟"在真空鍍膜技術領域，磁控濺射靶材扮演著至關重要的角色。這種特殊材料通過高能粒子轟擊釋放出原子，在基底表面沉積形成均勻薄膜。鈷鐵硼合金靶材因其獨特的磁性能，成為制備磁性薄膜的首選材料。磁控濺射過程中，靶材的純度直接影響薄膜質量。高純度靶材能減少雜質摻入，確保薄膜性能穩定。密度同樣是關鍵指標，高密度靶材可以降低濺射過程中的顆粒飛濺，提高鍍膜均勻性?，F代制備工藝通過熱等

• 碲化鍺靶材

  碲化鍺靶材：半導體產業的新星材料 碲化鍺（GeTe）作為一種半導體材料，近年來在電子器件、相變存儲器和紅外光學領域嶄露頭角。其獨特的性能使其成為靶材應用中的熱門選擇，尤其是在薄膜沉積技術中表現突出。 碲化鍺靶材的核心優勢在于其優異的電學和光學特性。它具有較高的載流子遷移率，能夠滿足高速電子器件的需求。同時，GeTe在相變過程中表現出顯著的非晶態與晶態電阻差異，這一特性使其成為相變存儲器（PCM）

• 氧化鋯靶材

  氧化鋯靶材：高性能材料的核心秘密 氧化鋯靶材是薄膜沉積技術中的關鍵材料，廣泛應用于半導體、光學鍍膜、太陽能電池等領域。它的高熔點、優異的化學穩定性以及良好的機械強度，使其成為高端鍍膜工藝的首選。 高熔點與穩定性 氧化鋯的熔點高達2700℃，遠高于普通金屬氧化物，這使得它在高溫環境下仍能保持穩定。在濺射鍍膜過程中，靶材需要承受高能粒子的轟擊，而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩定性和均勻性。此外，