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????在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中,晶圓表面會涂上光刻膠,然后光刻,顯影,但光刻膠只是圖形轉化的媒介,當光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后,需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝,之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子體去膠機可實現(xiàn)此功能。它用射頻或微波方式產生等離子體,同時通入氧氣或其他氣體,等離子體與光刻膠進行反應,形成氣體被真空泵抽走 等離子清
采用等離子表面處理機處理技術對玻璃改性,有設備簡單,原材料消耗低,成本低,產品附加值高等特點,優(yōu)化了玻璃鍍膜、粘合、去膜工藝,低溫等離子體表面處理機改性材料已廣泛應用于電容、電阻式手機觸摸屏等某些需要精加工的玻璃。玻璃經等離子清洗機處理后可解決了玻璃粘合困難,印刷,電鍍等難題。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處
為什么熔噴布需要加裝靜電駐設備?因為熔噴布熔噴無紡布主要用于過濾粉塵、微生物、霧霾等微米級顆粒物,堪稱口罩的“心臟”。需要表面靜電來吸附粉塵顆粒物來增加過濾效果。外科口罩和N95口罩的核心就是中間的那個夾層——熔噴布。口罩的過濾效率和直徑和填充密度有關。如果織得太密,口罩就不透氣,戴的人就很難受。如果不做靜電駐處理,能讓人感覺不會憋死的熔噴布的過濾效率就只有35%,靜電駐處理設備,即靜電發(fā)生
等離子體清洗機的表面處理技術是利用等離子體實現(xiàn)常規(guī)清洗方法所不能達到的。等離子體是物質的一種狀態(tài),也稱為物質的四態(tài),與一般的固體氣體三態(tài)不同。向氣體施加足夠的能量,使其離化,即為等離子態(tài)。其“活性”成分包括:離子、電子、原子、活化基、光子等。等離子清洗法是利用這些活性成分對試樣表面進行處理,達到清潔、涂覆等目的。工件表面經化學或物理處理后,可在分子水平上去除污染物,從而提高工件表面活性。在微電子技
公司名: 煙臺金鷹科技有限公司
聯(lián)系人: 劉曉玲
電 話: 0535 -8236617
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地 址: 山東煙臺招遠市山東招遠高新開發(fā)區(qū)招金路518號
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