碳/碳復合材料樹脂含量如何測量？

時間：2023-10-27

作者：蘇州紐邁分析儀器股份有限公司

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低場核磁技術用于涂料相容性研究
低場核磁技術用于涂料相容性研究相容性的定義：相容性是指共混物各組分彼此相互容納，形成宏觀均勻材料的能力。大量的實際研究結果表明，不同聚合物對之間相互容納的能力，是有著很懸殊的差別的。某些聚合物對之間，可以具有及好的相容性；而另一些聚合物對之間則只有有限的相容性；還有一些聚合物對之間幾乎沒有相容性。由此，可按相容的程度劃分為完荃相容、部分相容和不相容。相應的聚合物對，可分別稱為完荃相容體系、部分相容
低場核磁研究玻璃化轉變的影響因素
低場核磁研究玻璃化轉變的影響因素什么是玻璃化轉變溫度？玻璃化轉變溫度Tg是材料的一個重要特性參數，材料的許多特性都在玻璃化轉變溫度附近發生急劇的變化。以玻璃為例，在玻璃化轉變溫度，由于玻璃的結構發生變化，玻璃的許多物理性能如熱容、密度、熱膨脹系數、電導率等都在該溫度范圍發生急劇變化。根據玻璃化轉變溫度可以準確制定玻璃的熱處理溫度制度。對高聚物而言，它是高聚物從玻璃態轉變為高彈態的溫度，在玻璃化轉變
磁共振便攜
磁共振便攜設備是指便于攜帶和移動的小型核磁共振設備。傳統的核磁共振設備通常較大且需要固定安裝在實驗室中，而磁共振便攜設備的設計目的是提供一種更便捷、靈活的核磁共振測試解決方案。磁共振便攜設備通常具有以下特點：1. 尺寸和重量：便攜式磁共振成像設備相對較小、輕便，可以放置在桌面上或移動到需要的地方進行掃描。這使得它們在移動診斷、野外研究和緊急醫療救援等應用中非常有用。2. 電源和冷卻：便攜式磁共振成
低場核磁共振技術研究國產cmp研磨液
低場核磁共振技術研究國產cmp研磨液什么是cmp研磨液？CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing，即化學機械拋光。該技術是半導體晶圓制造的比備流程之一，對高精度、高性能晶圓制造至關重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調節劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對分散要求很高的納米材料懸浮液，所以研磨過程中對顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液中的