化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備

時間：2022-04-11作者：鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：796

鵬城半導體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

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• PVD技術(shù)在半導體器件中的應用

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• 高真空磁控濺射鍍膜技術(shù)【地震資訊】

  真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式：即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。在這里主要講下磁控濺射鍍膜。磁控濺射技術(shù)在市場中應用非常的廣泛，各行各業(yè)物件膜層鍍膜，大多數(shù)都是采用磁控濺射技術(shù)，磁控濺射技術(shù)在真空行業(yè)也是非常的受歡迎和追捧。高真空磁控濺射鍍膜是屬于物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種，一般的濺

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