鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石設備亮相碳基半導體材料產業發展論壇

時間：2023-05-25

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
新聞快訊-鵬城半導體MOCVD設備
材料的輸運采取了**純的氣路系統，源的切換和輸入采用了多路組合閥進氣技術。由于組合閥具有較小的死空間，使得源的殘留量非常少，有利于生長具有陡峭界面的材料。采用壓差控制技術控制組合閥的旁路和主路之間的壓力，大大降低了源的壓力和濃度波動，有利于材料生長的重復性和穩定性。采用了管道鑲嵌式進氣噴頭，使反應源在襯底表面均勻混合并反應，大大降低了預反應的發生。采用電阻式快速升降溫加熱爐。
真空鍍膜機適用范圍介紹
真空鍍膜機應用領域很廣泛，各行各業都有用到，光學領域，汽車裝飾零配件，電子，陶瓷等等，用在不同的行業，真空鍍膜機名字不一樣，下面詳細和大家劃分一下類目，希望能幫助到大家:1、建筑五金：衛浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛浴、五金合葉、家具，表殼．表帶的鍍膜、水晶制品等，鍍膜是為了提高表面的顏色，我們統稱為裝飾真空鍍膜機。2、用在電子，科技領域，如汽車激光雷達，抬頭顯示器HUD，電子后視鏡，光學鏡
鵬城半導體邀您參加第四屆全球半導體產業（重慶）博覽會
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