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? ?目前,低溫等離子設備廣泛應用于各種生產領域。比如,材料表面處理(塑料表面處理、金屬表面處理、鋁表面處理、印刷、涂布和粘接前等離子表面處理),其主要作用是清潔材料表層,改善表層的附著力和粘接性。等離子體技術得到了廣泛的使用,并成為了業界普遍關注的核心。采用這種創新的表層處理工藝,可以達到現代制造技術所追求的高質量、高可靠性、率、、環保的目標。? ? &n
納米銅薄膜是一種新型功能材料具有表面效應、**效應等特性,其導電性能良好在化工、紡織、醫學和電子等廣泛應用。低溫等離子體處理技術是一種對環境友好的表面處理技術,可應用于不同材料的表面處理,以實現清潔、刻蝕或接枝等。? ? ? ? 紡織材料表面采用低溫等離子體技術處理工藝設計后以其為基質沉積納米銅薄膜,可作為理想的功能材料并提高紡織品的附加值。未經等離子體預處
冶金涂層方法用于各種工程產品中,以提高它們的抗蝕性,耐磨性,疲勞強度和表面硬度。涂覆的方法有二種,一種是在工件表面上附著一層物質;另一種是從工件表面向里形成一層不同物質的擴散層,該層具有可以測定的濃度梯度,而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如,目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴散層,用它來可靠地支持更硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學氣相沉
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優良的介質材料,它具有介電性能穩定,介質損耗小,耐潮性好,溫度系數好等優點,具有較其穩定的化學性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發出各種新型的薄膜沉積技術。近年來,常壓plasma等離子處理
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