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時間：2020-04-29

作者：杭州揚科環保設備有限公司

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? AMC對當前的IC生產其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只要確定粒徑及個數，但對AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設備、工藝材料及園片傳送系統等的影響，較有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子對下一工序往往可能是污染物，而園片加工工序當前已多于3多個獨立工序，對AMC控制指標的確定較是復雜。IC生產對AMC的
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?? ?? ?反滲透(RO)作為一種簡易、實用的水處理方式在電廠應用中已由全套進口逐步發展到國產化，其設計和運行也從原來的照抄照搬到國內獨立完成。可以說在國內的電站水處理行業，對RO的應用已積累了相當的經驗。但是我國電力行業還沒有一套完整的關于RO設計、施工和運行的規程。RO用戶雖然眾多，但管理上不統一，并且在設備及技術上受制于外國膜制造公司。為
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? 單擊Ok.、從Report菜單中選擇PrintReport，則報告結果將打印到屏幕上，如想輸出到打印機上，則單擊Report底部的Print鈕。關機:關機前，用1%的水沖洗系統2分鐘，然后用**溶劑沖洗系統1分鐘（如ACN），然后關泵，（適于反相色譜柱）。[正相色譜柱用適當的溶劑沖洗]退出化學工作站，及其它窗口，關閉計算機（用ShutDown關）。關掉Agilent11電源開關。杭州
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? 值得一提的是：雙錐回轉真空干燥機充填率通常為3%～5%之間。放空現象一旦使用不當時，雙錐回轉真空干燥機在干燥過程中會出現如真空管彎曲、密封套損傷、過濾頭變形乃至斷裂等現象，這就是由于在干燥過程中放入外界空氣（簡稱放空）進入罐體反沖過濾頭，此時罐體內已達到較高的真空度，會引起正負氣流的強大沖擊而損壞抽真空系統。值得注意的是：在物料干燥完畢后需要放空罐體，排空時一定要用排空閥控制其流量