?plasma等離子體能量密度對(duì)H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響

時(shí)間：2023-03-14作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：120

深圳子柒科技有限公司專注于等離子表面處理機(jī),全自動(dòng)點(diǎn)膠機(jī),等離子清洗機(jī)等

• 詞條

  詞條說明

• 大氣等離子清洗機(jī)設(shè)備安裝靈便簡易，可去除塑膠表層的微小積塵

  ?大氣等離子清洗機(jī)設(shè)備安裝靈便簡易，可與智能化生產(chǎn)流水線在線運(yùn)用。利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)的活(化)影響，去除附著在物體表層的污垢。其基本原理:在氧等離子體中的氧原子自由基、刺激性氧分子、電子和紫外光線的相同影響下，油污分子結(jié)構(gòu)后面被氧化變成水和CO2分子結(jié)構(gòu)，并從物體表層去除。大氣直噴等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于玻璃光學(xué)、手機(jī)制造、印刷、包裝等諸多行業(yè)。? ? &nbs

• 工程產(chǎn)品冶金涂層氮?dú)獾入x子表面處理方法

  冶金涂層方法用于各種工程產(chǎn)品中，以提高它們的抗蝕性，耐磨性，疲勞強(qiáng)度和表面硬度。涂覆的方法有二種，一種是在工件表面上附著一層物質(zhì)；另一種是從工件表面向里形成一層不同物質(zhì)的擴(kuò)散層，該層具有可以測定的濃度梯度，而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時(shí)存在。例如，目前對(duì)高載工件一般是先形成硬的氮化物擴(kuò)散層，用它來可靠地支持更硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉

• 電漿清洗機(jī)氫去除SiC表面污染物C和O

  SiC該材料是三代半導(dǎo)體材質(zhì)，具有高臨界擊穿電場、高導(dǎo)熱性、高載流子飽和漂移速度等特點(diǎn)。它是高端半導(dǎo)體功率器件的*方向，在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導(dǎo)體器件低損耗的優(yōu)良性能，是高端半導(dǎo)體功率器件的*。? ? ? ??但經(jīng)傳統(tǒng)濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質(zhì)和表面容易被氧化等缺點(diǎn)，使得在SiC上不容易形成優(yōu)良的歐姆接觸和低界面態(tài)的MOS結(jié)

• 生物領(lǐng)域等離子處理機(jī)的應(yīng)用原理分析

  生物領(lǐng)域等離子處理機(jī)的應(yīng)用原理分析，即物質(zhì)的*四態(tài)，是由部分喪失電子的原子和電離產(chǎn)生的自由電子組成的離子氣體物質(zhì)。這種電離氣體由原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子組成。其作用可以實(shí)現(xiàn)物體表面的清潔、活化、蝕刻、精整和等離子處理機(jī)表面涂層。由于低溫等離體對(duì)物體表面的處理強(qiáng)度小于高溫等離子體，可以保護(hù)物體表面。我們在應(yīng)用中使用的大多是低溫等離子體。而且各種粒子在物體處理過程中所表現(xiàn)出的作用也各不相同。&n